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近两年中国经济迅速发展，这是大家有目共睹的事，在科技领域我们也取得了不错的成就。我们都知道，我国在很多方面起步都比较晚，我们却用几十年的时间赶超了那些西方国家，这个就是我们最大的底气。
科技技术是未来发展的核心，这是我们一直坚守的准则，近两年芯片行业发展势头一片大好。对于我国来说，在这一领域最难攻克的技术就是光刻机了，中国专家李毅夫曾说过，中国三年就能够造出光刻机，现在两年已经过去了，结果如何呢？
一、中国芯片的发展
我国群众最不缺的就是毅力，我们坚信只要付出足够的努力与时间，就能够收获想要的结果，这一点适用于任何领域。现在我国芯片是最大的进口国，我们都知道高端芯片技术都把握在美国的手中。
光刻机是生产芯片必须要用到的一个工具，芯片的研发成功与否，和这一机器有着紧密的联系。想要制造这一机器并不容易，对技术与工艺有着极高的要求，可以算是一个大规模生产集成电路的核心。
简单来说就是，就算你现在从国外购买了一台光刻机，将它全部都拆卸完之后，想要再组装回去都难。这足可以看出，它内部结构是有多么的精细了，美国在这一领域一直都是大佬般的存在。
近几年我国在半导体领域投入了不少的人力物力，还有资金，终于取得了不错的成效。华为所研发出来的麒麟系统，受到了大家的认可，也正是因为如此，遭到了美国的打压。
对美国有所了解的人应该都知道，它一直秉持着霸权主义，不会让其它国家超过自己，在中国取得一定的成就之后，于是美国和其它国家联合，修改了国际芯片法则，这很明显是针对中企。
二、中国与ASML的合作
ASML公司在芯片领域有着极大的影响力，它的技术特别的先进，正好这是中国所稀缺的，早年前两国就展开了积极的合作，促成了彼此的成长。我国的芯片发展遭到了美国的制裁之后，这一企业也受到了牵连。
这一公司的CEO就曾表示过，中国的这一行业正在飞速发展，在未来的15年间，很可能会凭借自己的技术制造出这一仪器。虽然现在他被迫放弃了与中国的合作，但是他对中国的技术给予了高度认可。
面对这样的局势，林毅夫作为这方面的专家，在《环球日报》上发表了一篇报道，在其中它称中国有望在三年甚至更短的时间内，掌握光刻机的技术，到那时候任谁都无法再去阻拦中国芯片的发展了。
三、中国光刻机的进展
当时很多人都觉得林毅夫这句话说的毫无依据，就中国现有的技术而言，三年内想要突破光刻机技术，几乎是不可能的。但我们最擅长的就是去给其它国家制造惊喜，当别人认为我们做不到时，我们会用事实证明自己的实力。
这两年我国各地的科技公司接连爆出了喜讯，之前受到美国打压的华为，在逆境中完成了自己的成长，它发表了有关光刻机技术的专利，这让大家看到了希望。去年国望光学称，光刻曝光系统的研发和批量生产项目，已经有了很大的进展，可以进入到批量生产的阶段。
在刚进入2023年，哈工大也宣布在EUV激光光源技术，还有高速超精密激光干扰仪等问题得到了解决，这两项都是光刻机上的核心技术。中芯国际也突破了EUV芯片生产技术，让我国的芯片技术又前进了一大步。
这一精密仪器是靠着多项领域的尖端技术支撑的，我国正在逐一突破，用了两年的时间取得了重大的进展，所以在三年实现制造光刻机也不是不可能。现在我国光刻机的研发技术还在进行，可能在不久之后又会有好消息传出。
想要在光刻机上达到国际领先的水平并不容易，我国用几年的时限去兑现诺言，这让很多国外国家都觉得太不可思议了。一直以来，我国就是以这样的速度与发展态度，去向众人证明中国的实力与价值的。
总结
我国在制造光刻机上还有很远的一段路要走，其中还有更多的技术壁垒等着我们去突破。我们现在实现了从无到有的过程，不依靠它国的技术，全凭着自己的研发，就能够有如此成就，这也是在告诉世界，中国的科技水平不容小觑，再加上有经济的飞速发展，中国的综合国力在国际上迅速提升，这是必然结果。对此你有什么看法呢？
2、华为多久能研发出光刻机，华为80亿重金研发光刻机
文 | 华商韬略 吴苏
芯片持续撬动着资本、民心和政策，想让行业崛起也绝非一日之功。
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近日，台积电正式宣布，在美国给出的 120 天宽限期结束后（9 月 14 日之后），台积电不再为华为代工生产芯片。同时，中芯国际也曾在其招股书中表示，未来可能无法用美国的半导体设备为华为代工芯片。
如此一来，形势变得更为严峻，除了购买第三方的芯片，自己制造芯片生产的核心设备光刻机，也是一个逼不得已的选项。
最近一则华为要生产光刻机消息，更是激起了舆论的巨大关注。
有媒体报道，华为方面已经开始着力自建芯片晶圆厂，并且已经在招聘光刻工艺工程师，工作地点在东莞松山湖。
还有消息称，华为“确实去很多半导体设备厂挖人”，一家国产光刻机厂商“被挖走了不少人”。
消息传出，大批网友感到振奋，“如果华为搞，可以直奔 5nm 制程去，其实 ASML 真干也只干了两年”、“两年搞定 5nm 芯片生产线”、“前期评估 5nm 光刻机 2 年内投入量产”之类的评论层出不穷。
此前， 美国官方声明，将严格限制华为使用美国的技术、软件设计和制造半导体芯片，以保护美国国家安全，并切断华为试图脱离美国出口管控的途径。
但针对美国此次限制升级，5 月 16 日上午，华为通过心声社区发文称：没有伤痕累累，哪来皮糙肉厚，英雄自古多磨难。回头看，崎岖坎坷；向前看，永不言弃。
此外，近期还有好消息。英国当地时间 6 月 25 日，华为公司正式宣布其位于剑桥园区的第一期规划已经获批，主要用于光电子的研发与制造。
该项目规划经历三年多时间，今年是华为进入英国市场的第 20 年，该公司目前在英国拥有 1600 名员工。
其实早在 2016 年，华为就申请了和光刻机相关的技术专利。也就是说，华其实在提前布局，相关数据显示，华为已经在相关领域投资了 80 亿美元。
只是想要打造自己的生产线和光刻机难度是无法想象的。
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华为足够强，但想成功造就光刻机也绝非一日之功。光刻机的本质其实与投影仪 照相机差不多，但不过说起来，作为半导体行业“皇冠上的明珠”，想实现行业整体崛起必须打团体战！
这是涉及到种种专利及供应链部件限制，并不那么容易突破封锁。这从当年最大光刻机巨头尼康的衰落这件事上就能一探究竟。
上世纪 90 年代，光刻机的光源波长被卡死在 193nm，成为了摆在全产业面前的一道难关。
但当初要强的尼康的零件技术却想全靠自己搞定。尼康选择了在 157nm 上一条道走到黑，却没意识到背后有位虎视眈眈的搅局者。
尼康晚了半步，却一步错步步错。错失 EUV 关上了尼康光刻机的大门，而 ASML 却借机崛起，演绎出一场地地道道的美国式成功。
如今，ASML 成为全球光刻机的霸主，也是唯一能生产 EUV（极紫外线）光刻机的荷兰厂商，截至 2018 年初，在全世界范围内约有 12000 件专利和专利申请，在中国的专利申请就达到 1326 件。
不仅数量庞大，ASML 的专利也高度集中，几乎都聚焦于光刻机及其零部件。专利背后，当时 ASML 拥有 160000 名员工，其中大部分都是研发人员。
事实上，ASML 能笑傲全球，不是荷兰一个国家取得的成果，而是多个国家通力合作的产物。
因为，光刻机是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。
若不是当年美国的小心思，拉偏见，提防日本崛起，根本就没这个荷兰公司的机会。
当时，掌握光刻机界话语权的是日本尼康、佳能。
1997 年，美国巨头英特尔组织了一个叫 EUV LLC 的联盟。这个联盟里，除了英特尔和牵头的美国能源部，还有摩托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
英特尔希望把尼康和 ASML 拉进联盟，但美国将 EUV 视为推动本国半导体产业发展的核心技术，不大希望外国企业参与其中。
然而，EUV 光刻机技术要求太高，可以说逼近物理学、材料学和精密制造的极限，单打独斗可不行，本国的光刻机企业 SVG 等又被来自日本的尼康“扫荡”得扶不上墙，自然对尼康不放心，于是最后，美国选择荷兰的 ASML 合作。
ASML 也很有决心，不仅同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，用来满足所有美国本土的产能需求，还保证 55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查。
这是 ASML 甩掉尼康，依托 EUV LLC 研发人员发表的技术成果，一步步发展成全球霸主的原因，也是美国能禁止荷兰生产的光刻机出口中国的原因。
说到底，ASML 的光刻机王朝，建立在国际合作的基础之上，离不开美国光源技术，德国蔡司的光学技术支持……
所以，ASML 曾扬言，就算公开图纸也不怕被山寨。因为西方合作供应链机制，没人能山寨。有些东西，别人是不会卖给你的。他还特意解释了为什么他不害怕中国会模仿出光刻机：
光刻机设备供应商 ASML 的首席执行官 Peter Wennink 此前表示：“这是因为我们是系统集成商，我们将数百家公司的技术整合在一起，为客户服务。
这种机器有 80000 个零件，其中许多零件非常复杂。”
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你可能觉得，华为刚起步，就拿来和国际龙头相比，不太合适。
那么，可以用国产龙头上海微电子来对比。
上海微电子成立于 2002 年，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建，长期专注研发光刻机，截止 2020 年 5 月，持有的专利和专利申请数量超过 3632 件，可以做到最精密的加工制程是 90nm 的光刻机。
90nm 的光刻机，可以驱动基础的国防和工业，但只能算是最底层的水平。有分析说，上海微电子能造出来的芯片，相当于 2004 年的奔腾四处理器，“有十几年的差距”。
不难看出，要生产光刻机，尤其是生产 5nm 芯片的 EUV 光刻机，需要长期的努力。
目前，中国芯片制造方面顶尖的中芯国际只有 28 纳米的生产工艺，14 纳米工艺才刚刚开始量产，且中国芯片制造只能占到世界 7.3%的份额。
美国的封锁与打压，短期看，的确制造很多困难，但长期看，只会激发中国放弃侥幸，集中力量，让核心科技硬起来。半导体产业被持续加持，中芯国际的快速上市，本身就是例子。
从全球产业和市场格局看，中国半导体产业，也已到了可以突围而上，加速发展的关键时刻。
一边难度系数极高，一边是生存之战，所以华为要搞成光刻机，需要兄弟帮衬，需要直接面对，更要能够整合全国相关的产业、技术和资源，“集中力量办大事”。
其实，国产光刻机厂商中，上海微电子是一个不错的合作对象。分析人士指出，上海微电子研发中的 28nm 分辨率的光刻机可以用于 14nm 芯片的生产，多次曝光情况下，甚至可以生产 12nm 的芯片。上海微电子拥有这样的技术基础，华为与其合作，能走不少弯路，也能彼此激发，共同创新，走得更远。
当然，光刻机还有很多技术，国产厂商暂时没法突破，这就更需要中国相关产业携手前行，一起提升技术水平。事实上，中国很早就重视了半导体的大战。最早可追溯至上世纪 60 年代。但在后来的发展中，由于自身路径，国内产研环境，以及不友好的产业环境等多种原因，逐渐掉队。
中科院微电子所院士表示，在光刻机方面国内与国外先进相比相差 15-20 年的距离。即使是国内最先进的上海微电子，也还有相当长的路要走。
但近年来，国家加大了对半导体行业的投入。大基金一期投入 1300 亿，已收尾；二期预计超过 2000 亿。但这些资金需要投资的项目也很多，涵盖芯片设计、制造、封测、设备等诸多领域。以一期为例，累计投资 62 个项目，涉及 23 家上市公司。
单从 ASML 称霸天下来看，这也是全人类努力的科技结晶。所以前方虽然艰巨，但前景却很光明。
半导体行业向中国转移的大趋势不会改变。另一方面，国家也正进一步加大支持和投入，也给了国内企业追赶的机会。
但相关的专家也表示目前中国想自研光刻机漫漫长路，拿日本和韩国做例子，其实他们背后都有美国的影子，日本在美国技术的支持下完成了第一产业产业转移，同样的韩国也是，想靠一己之力几乎不太可能，技术也有个积累的过程
所以，光刻机之战需要打团体战，唯有行业崛起，技术暴走，才能让产业链整体雄起。这是一个需要积淀的行业，成为光刻机领域真正不可替代的国产希望，华为的路还要很远，但庆幸的是，这条路越走越稳了。
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